技术参数

　　1.分类标准及制备方法

　　1.1品级：5N

　　1.2制备方法：半导体工业用的高纯锗（杂质少于1/1010）可以用区域熔炼技术获得

特征描述

　　2.元素信息

　　2.1元素符号：Ge

　　2.2原子序数：32

　　2.3熔点：938.25℃

　　2.4沸点：2830℃

　　2.5密度：5.35g/cm3

　　2.6化学性质：不溶于水、盐酸、稀苛性碱溶液，溶于王水、浓硝酸或硫酸，具有两性，故溶于熔融的碱、过氧化碱、碱金属硝酸盐或碳酸盐，在空气中较稳定。

　　2.7物理性质：锗单质是一种灰白色金属，有光泽，质硬

规格

　　3.规格尺寸

3.1规格型号：2-5mm

　　3.2其他规格：可按客户要求定做

质量要求

　　4.质量要求

　　4.1纯度严格按照客户需求生产

　　4.2尺寸公差严格控制在正常范围内

　　4.3产品表面平整洁净，无结粒、无裂纹、无夹杂和其他污迹

出货检查

　　5.出货检查

　　5.1化学成分分析方法采用光谱分析法。

　　5.2产品的尺寸采用相应精度量具测量

　　5.3外观质量由目视检查

包装清单

　　6.包装、运输、贮存和质量证明书

　　6.1内包装采用铝塑带真空封装，外包装采用纸箱包装，净重以实际重量为准

　　6.2产品内包装应有产品名称、商标、供方名称、供方地址、净重标志

　　6.3运输方式为陆运，空运，水运，自提，具体方式双方协商

　　6.4产品应贮存于干燥、通风、无腐蚀性气体的仓库中，不得与酸、碱、油类化学品一起贮存，严防受潮、腐蚀

　　6.5每批产品由同一系统、同一生产周期生产的同一牌号的产品组成，每批产品不大于1t每批产品应附有质量证明书

用途/应用领域

　　7.应用范围

　　7.1锗具备多方面的特殊性质，在半导体、航空航天测控、核物理探测、光纤通讯、红外光学、太阳能电池、化学催化剂、生物医学等领域都有广泛而重要的应用，是一种重要的战略资源。在电子工业中，在合金预处理中，在光学工业上，还可以作为催化剂。